В РФ запустят установку для преодоления технологического порога в электронике

В Новосибирской области намерены разработать уникальную установку, которая поможет преодолеть технологические ограничения оптической литографии и вывести отечественное производство микросхем на новый уровень. Проект будет реализован на базе синхротрона СКИФ, запуск которого ожидается в 2026 году, сообщили в пресс-службе Новосибирского госуниверситета.

СКИФ — первый в России и один из самых мощных в мире источников синхротронного излучения четвёртого поколения. Он позволит получать максимально точные данные о структуре материалов. Изначально объект планировали запустить в 2024 году, но сроки перенесли на конец 2025-го. Руководители СО РАН ранее отмечали, что пуск может состояться в середине следующего лета, а президент Владимир Путин сообщил, что постарается присутствовать на открытии.

Учёные НГУ предложили создать опытный рентгеновский литограф «Орел-7» как часть инфраструктуры СКИФ. Установка должна помочь преодолеть технологическое ограничение на уровне 28 нанометров и приблизить разработку российских процессоров нового поколения. В микроэлектронике это значение связано с плотностью размещения транзисторов: чем меньше масштаб, тем выше производительность и экономичнее энергопотребление.

На базе СКИФ планируют организовать рентгеновскую станцию под литографическое оборудование нового типа. Переход на рентгеновский диапазон позволит формировать более мелкие структуры и повысить разрешение при одновременном снижении стоимости. В НГУ отмечают, что такая технология способна укрепить потенциал российской микроэлектроники.

Разработкой литографа займутся специалисты центра искусственного интеллекта, которые создадут цифровые модели промышленного оборудования. Параллельно будут использованы ресурсы научных институтов СО РАН, работающих в сфере физики полупроводников и моделирования.

По словам одного из авторов проекта, исследователи рассчитывают, что совместная работа позволит выйти за пределы 28-нанометрового стандарта — ключевого этапа третьего перехода в микроэлектронике. Опытный образец литографа создадут на СКИФ, где можно будет подробно изучить физические процессы и оптимизировать параметры. Параллельно аналогичную систему планируют внедрить на синхротроне в Зеленограде для дальнейшей промышленной отладки.